uv光氧催化設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

uv光氧催化設(shè)備主要由以下模塊構(gòu)成：

1.紫外光系統(tǒng)：

1.1紫外汞燈光源功率：400W；100～400瓦功率可調(diào)；

1.2紫外光波長(zhǎng)：365nm；

2.測(cè)溫系統(tǒng)：

2.1接觸式耐腐蝕溫度傳感器，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)反應(yīng)體系內(nèi)溫度；

2.2腔體內(nèi)溫控系統(tǒng)，在排風(fēng)系統(tǒng)失靈時(shí)及時(shí)關(guān)機(jī)；

3.腔體

3.1不銹鋼材料筒狀結(jié)構(gòu)腔體，燈巢設(shè)計(jì)   ；

4.磁力攪拌系統(tǒng)：

4.1四點(diǎn)   磁力攪拌系統(tǒng)，正反轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速無可調(diào)，可以同時(shí)滿足4位樣品攪拌；

5.顯示系統(tǒng)

5.1數(shù)碼管顯示：時(shí)間、當(dāng)前溫度；

6.降溫系統(tǒng)

6.1大功率風(fēng)冷式降溫系統(tǒng)，控制體系內(nèi)溫度，確保   ；

7.反應(yīng)系統(tǒng)

7.1反應(yīng)容積：可選擇50~250ml的石英玻璃燒杯，可同時(shí)做4個(gè)平行反應(yīng)。

以下七個(gè)模塊便是光氧催化設(shè)備的主要配件。缺不可。每個(gè)模塊都是相輔相成的。